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📰 日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统,号称回收率达 50%

日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统,号称回收率达 50%

IT之家 10 月 6 日消息,据科技媒体 Tom's Hardware 今天报道,日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 现已推出新型氖气回收系统 hTGM,用于氟化氩(ArF)准分子激光器。

据报道,这套系统可实现 50% 氖气回收率,未来调整系统配置后,&l

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