📰 ASML High NA EUV 光刻机首批组件抵达纽约州奥尔巴尼纳米技术综合体

ASML High NA EUV 光刻机首批组件抵达纽约州奥尔巴尼纳米技术综合体

IT之家 7 月 21 日消息，据美国纽约州州长办公室当地时间今日向路透社提供的信息，ASML High NA EUV 光刻机首批组件抵达该州境内的奥尔巴尼纳米技术综合体 (Albany NanoTech Complex)。

IT之家注意到，根据综合体监管方 NY Creates（纽约研究、经济促进、技术、工程和科学中心）在社交媒体提供的照片，这一半导体制造关键设备已于当地时间昨日踏上了前往综合体的最后一程。