📰 俄企业成功开发 150nm 电子束直写光刻原型系统

俄企业成功开发 150nm 电子束直写光刻原型系统

IT之家 7 月 24 日消息，据俄罗斯媒体 CNews 当地时间 20 日报道，该国企业泽列诺格勒纳米技术中心已于今年 6 月成功开发出 150nm 电子束直写光刻原型系统，这一设备的名称似乎可以意译为 "Progress ELL 150"。

泽列诺格勒纳米技术中心负责人表示，目前正对两套原型系统进行一系列为期 4 个月的初步测试，此后则将开始测试图案化精度及其它技术参数。