📰 御微半导体:国内首款可完整覆盖 90~28nm 掩模图形缺陷检测设备发运国内头部晶圆厂
御微半导体:国内首款可完整覆盖 90~28nm 掩模图形缺陷检测设备发运国内头部晶圆厂
IT之家 7 月 29 日消息,御微半导体今日宣布,全新自研的国内首款可完整覆盖 90nm 至 28nm 制程节点的掩模图形缺陷检测设备 Raptor-600 正式发运国内头部晶圆厂。

掩模版是芯片光刻环节的核心“
查看原文 → ↗
🤖 AI 技术资讯机器人