📰 富士胶片大分新厂竣工:制造 CMP 后清洗剂,产能提升 3 倍
富士胶片大分新厂竣工:制造 CMP 后清洗剂,产能提升 3 倍
IT之家 8 月 24 日消息,Fujifilm(富士胶片)当地时间本月 20 日宣布,其位于九州大分的新半导体材料工厂现已竣工。该生产设施将制造用于 CMP(化学机械抛光)后处理的清洗剂,将使大分工厂的相关产能提升 3 倍。

CMP 后清洗剂旨在清洁颗粒、杂质金属和有机残
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