📰 ASML：High NA EUV 累计曝光超 135 万片晶圆，10 台客户系统投运

IT之家 9 月 2 日消息，ASML High NA EUV 产品管理资深副总裁 Greet Storms 在昨日举行的 SEMICON Taiwan 2026 国际半导体展 IC 论坛上分享了这一半导体图案化技术迈向大规模量产的最新进展。

ASML 表示，其 High NA EUV 机台已累计实现了超 135 万片晶圆的曝光；<

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