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📰 密度与 10nm SRAM 相当:CEA-Leti 开发 22nm FeRAM 关键电容技术

密度与 10nm SRAM 相当:CEA-Leti 开发 22nm FeRAM 关键电容技术

IT之家 6 月 21 日消息,法国原子能委员会电子与信息技术实验室 (CEA-Leti) 当地时间本月 15 日宣布,该机构在 IEEE VLSI 2026 研讨会上展示了一项 FeRAM(IT之家注:铁电随机存取存储器)电容器关键技术。

该技术可让 FeRAM 在 22nm 节点实现 2.5 倍于标准 SRAM 的存储密度,直逼 10nm SRAM。而作为一款非易失性存储器,FeRAM 又无需像 DRAM 那样频繁刷新数据,降低了端侧设备的运行能耗。

CEA-Leti 表示,FeRAM 的整体尺寸更大程度上取决于电容器而非选择晶体管,传统 FeRAM 中的平面电容器结构限制了器件的小型化。该机构为此在第三维度展开探索,<

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