📰 目标 2029 年不依赖 EUV 光刻机实现等效 5nm 的全国产方案，国内首条二维半导体工程化示范工艺线全线贯通

IT之家 7 月 10 日消息，原集微科技宣布，7 月 9 日，由原集微建设的世界首条 8 英寸二维半导体中试线正式启用，这是国内也是世界首条二维半导体工程化示范工艺线。

IT之家获悉，该工艺线于今年 1 月完成点亮，仅半年多时间完成全部设备二次调试与工艺优化。区别于实验室小型试制平台，当前整条产线已具备完整流片与工程化试制能力，搭建起从材料制备到芯片集成的完整工程化链条。

原集微科技董事长包文中表示，依托二维材料原子级厚度的天然优势，其无需依赖复杂的 FinFET 或环栅结构，即可实现晶体管的持续微缩。

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